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        ナノインプリント

        解像度をナノサイズまで高めた表面微細加工技術


        ナノインプリント(NIL)技術は、エンボス(凹凸、浮き彫り加工)技術を発展させ、ナノオーダーのパターンを転寫する微細加工技術です。

        工程は塗布、プレス、転寫、離型の4つであり、裝置が簡易であり低コストで量産でき、比較的簡便な操作であることもあり、微細加工技術として期待されています。一方、高精度の製品を再現性よくするには、裝置、プロセス、材料などに精細な調整が必要です。


        UVインプリントは熱インプリントと比較すると、モールドがUVを透過すれば転寫時間が短いというメリットがあります。


        半導體デバイス、バイオ、光學部材など多方面の分野で実用化への取組が進んでいます。





        動畫內容

        • 版に樹脂を塗布しフィルムに転寫するプロセスを紹介します。

        技術適用事例:

        半導體プロセスにおけるフォトリソ代替技術としてナノインプリントの技術を採用する事で、大幅にプロセスの簡易化に期待できます。

        それだけでなく有機EL照明等で用いられる光取り出し効率向上技術として光拡散フィルム等は、ナノインプリント技術が採用されております。





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        関連リンク

        技術適用製品

        用途別事例

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